Das Photomaskenmessgerät erlaubt Strukturen auf Glas genau zu lokalisieren und zu vermessen. Es besteht aus einem präzisen, luftgelagerten x-y Tisch, einem Mikroskop und einem zweiachsigen, differenziellen Planspiegelinterferometer. Das Interferometer misst die Position der Photomaske gegenüber dem Mikroskopobjektiv. Die Position der Strukturen (Linien, Kreuze, Kanten, etc.) wird mit einem Videomikroskop erfasst und mit digitaler Bildanalyse berechnet.
Der Messplatz wird für Kalibrierungen von zweidimensionalen Massverkörperungen, wie Photomasken, Linear- und Winkelencoder, Strichplatten, usw. verwendet. Der Messbereich beträgt 400 mm x 300 mm. |
