Nano- und Mikrometrologie

Das Nano- und Mikrometrologie-Labor des METAS beschäftigt sich mit dimensionellen Messung an sehr kleinen Objekten der Mikro-, Halbleiter- und Nanotechnik. Es stehen verschiedene Messplätze in einer Reinraumumgebung zur Verfügung, die die unterschiedlichsten Messaufgaben erfüllen können. Die Messmöglichkeiten des Labors werden laufend, gemäss den steigenden Anforderungen, ausgebaut.

In der Nanometrologie wird die Messgrösse typischerweise in Nanometern (1 nm = 1/1 000 000 mm) angegeben.

	Rasterkraftmikroskopie Das Rasterkraftmikroskop (AFM) tastet eine Oberfläche mit einer sehr feinen Spitze ab. Die dabei gewonnenen Koordinaten ermöglichen es, die Oberfläche dreidimensional abzubilden. Die höchsten realisierten Auflösungen erlauben sogar einzelne Atome zu "sehen".    [»...]
	Gitterstrukturen Das Laserdiffraktometer nutzt die Beugung von Licht an periodischen Strukturen, um deren Gitterkonstante zu bestimmen.  [»...]
	Interferenzmikroskopie Das Interferenzmikroskop verwendet Weisslicht oder monochromatisches Licht im Phasenverschiebemodus um kleinste Höhenunterschiede von nur 0.1 nm aufzulösen.    [»...]
	Photomasken Das Photomaskenmessgerät erlaubt Strukturen auf Glas, wie sie in der Photolithographie verwendet werden, genau zu lokalisieren und zu vermessen.    [»...]
	Mikroteile Das Mikro-Koordinatenmessgerät besitzt einen ultrapräzisen 3D Verschiebetisch und einen einzigartigen Tastkopf mit sehr kleiner Tastkraft. Mit kleinsten Antastkugeln von nur 70 µm Durchmesser werden Antastwiderholbarkeiten von 5 nm erzielt.   [»...]